单项选择题
因为离子注入所引起的简单或复杂的缺陷统称为（）。
A.晶格损伤B.晶格缺陷C.晶胞损伤D.晶胞缺陷
单项选择题 根据扩散源的不同，有三种不同扩散工艺，以下不是的是（）。
单项选择题 两步工艺分为预淀积（预扩散）、再分布（主扩散）两步，预淀积是惰性气氛下的（）。
单项选择题 以下不是扩散工艺的重要参数是（）。
