单项选择题
在硅片加工中可以接受的膜，以下不具备需要的膜特征（）
A.好的台阶覆盖能力B.填充高的深宽比间隙的能力C.好的厚度均匀性D.高的膜应力
单项选择题 蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）
单项选择题 P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）
单项选择题 溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）
