问答题
简述侧墙工艺目的。
侧墙用来环绕多晶硅栅侧壁阻挡大剂量的S/D注入以免其接近沟道导致源漏穿通。
问答题 简述轻掺杂漏（LDD）工艺目的。
问答题 简述什么是浅槽隔离STI及优点。
问答题 简述LOCOS隔离原理。
