单项选择题 湿法刻蚀中，（）的腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液。

单项选择题 （）可以利用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料，从而把光刻胶上的图形转移到薄膜上的过程。

单项选择题 在涂胶过程中，要想得到较厚的光刻胶，在选择光刻胶和设置转速时需要注意（）