多项选择题
溅射方法从本质上可分为()。
A.反应溅射B.直流溅射C.磁控溅射D.射频溅射
多项选择题 集成电路制造技术中,薄膜制备技术主要包括两大类()。
单项选择题 与真空蒸发相比,溅射薄膜的台阶覆盖性好,关键在于()。
单项选择题 以下不属于真空蒸发的局限性的是()。