判断题 各向异性的刻蚀剖面是在所有方向上（横向和垂直方向）以相同的刻蚀速率进行刻蚀。

判断题 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

判断题 投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。