black

集成电路工艺原理

登录

判断题

侧墙用来环绕多晶硅栅,防止更大剂量的源漏注入过于接近沟道以致可能发生源漏穿通。

【参考答案】

正确

相关考题

判断题 集成电路是由Kilby和Noyce两人于1959年分别发明,并共享集成电路的专利。

判断题 世界上第一块集成电路是用硅半导体材料作为衬底制造的。

判断题 硅片制造厂可分为六个独立的区域,各个区域的照明都采用同一种光源以达到标准化。

All Rights Reserved 版权所有©财会考试题库(ckkao.com)

备案号:湘ICP备2022003000号-2