多项选择题
光刻胶的主要性能指标有()
A.灵敏度B.分辨率C.抗蚀性D.黏附性
多项选择题 光刻胶的主要成分有()
多项选择题 光刻工艺三要素为()
多项选择题 单晶硅生长是将电子级纯的多晶硅华为单晶硅锭,要实现这一条件需满足三个条件:()、()、()。