判断题
扩散的低压工艺有多晶、氮化硅和TEOS。
正确(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
判断题 LPCVD多晶的反应气体是二氯二氢硅。
判断题 氮化硅去除使用的是磷酸药液。
判断题 驻波效应破坏了光刻胶图形侧壁的垂直性,也导致光刻胶CD测量的不稳定。