判断题
薄膜制备的方式中,CVD不消耗衬底材料。
正确
判断题 溅射常用的等离子体是用氩气离化的。
判断题 溅射相对蒸镀具有不少优势,但某些特殊材质薄膜的制备上电子束蒸镀更有优势。
判断题 金属化是指根据电路设计要求,把硅片上制成各种晶体管、二极管等元器件用金属薄膜固定的方式。