单项选择题
下列哪种是ULVAC特有的等离子生成方式？（）
A.ICPB.CCPC.NLDD.其余都是
单项选择题 通过在Ar气体中导入（）等气体进行溅射，可以形成化合物薄膜。
单项选择题 下列哪项是离子注入设备产品的领域？（）
单项选择题 Cat-CVD的气体是通过什么反应成膜的？（）
