单项选择题 集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于（）。​

单项选择题 以下对集成电路版图设计中几何设计规则描述不正确的是（）。​

单项选择题 以下不是影响刻蚀质量的主要因素是（）。‎‎​‎