单项选择题
环境温度的变化可影响硅片的涂胶均匀性,通常将环境温度设定于()。
A.20℃B.23℃C.25℃D.28℃
单项选择题 光刻胶对人部分可见光敏感,但对()光不敏感。
单项选择题 高压汞灯作为紫外光源被使用有常规i线步进光刻机上,那么i线的UV光波长为()
单项选择题 坚膜烘焙在加热平板上进行,温度控制在()。