判断题
超高真空之气流型态爲分子流。
正确(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
判断题 素材进入真空系统以前必须充分干燥,不得含有水气,但溶剂则无妨碍。
判断题 磁控靶産生不均匀刻蚀的现象是由于磁场造成粒子的特殊轨迹所致。
判断题 当活性炭吸附量达饱和及活性炭效能丧失会造成Cryo Pump回温。