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单项选择题
二氧化硅中每个硅原子周围有（）个氧原子。
A.1
B.2
C.3
D.4 -
单项选择题
以下哪项不是STI工艺气体？（）
A.SiH4
B.O2
C.N2O
D.Ar -
单项选择题
CMP清洗部分的顺序是（）。
A.兆声清洗（Meg）-SRD（甩干）-Brush（刷洗）
B.兆声清洗（Meg）-Brush（刷洗）-SRD（甩干）
C.Brush（刷洗）-兆声清洗（Meg）-SRD（甩干）
D.Brush（刷洗）-SRD（甩干）-兆声清洗（Meg）
