问答题
简答题
简述先进的0.18μmCMOS集成电路工艺技术工艺步骤。
【参考答案】
①双阱工艺；
②浅槽隔离工艺；
③多晶硅栅结构工艺；
④轻掺杂漏（LDD）工艺；
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
相关考题
-
问答题
简述3.0μm CMOS集成电路工艺技术工艺流程。 -
问答题
简述CMP技术的优点。 -
名词解释
化学机械平坦化（CMP）
