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集成电路工艺原理
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填空题
常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有（）、（）、（）、（）、（）、（）、（）等。
【参考答案】
涂胶；前烘；曝光；显影；坚膜；腐蚀；去胶
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