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填空题
热氧化制备SiO
2
的方法可分为四种,包括()、()、()、()。
【参考答案】
干氧氧化;水蒸汽氧化;湿氧氧化;氢氧合成氧化
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填空题
常规的硅材料抛光方式有:()抛光,()抛光,()抛光等。
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提拉出合格的单晶硅棒后,还要经过()、()、()等工序过程方可制备出符合集成电路制造要求的硅衬底片。
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