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多项选择题
以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）
A.湿法刻蚀
B.溅射刻蚀
C.等离子体刻蚀
D.反应离子刻蚀 -
多项选择题
先进的光刻技术有（）
A.EUV曝光
B.电子束光刻
C.X射线光刻
D.纳米压印技术 -
多项选择题
光刻胶的主要性能指标有（）
A.灵敏度
B.分辨率
C.抗蚀性
D.黏附性
