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单项选择题
P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）
A.SiH4、O2
B.SiH4、NH3
C.SiH4、N2O
D.SiH4、N2 -
单项选择题
溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）
A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1% -
单项选择题
P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）
A.APCVD
B.LPCVD
C.PCVD
D.PECVD
