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单项选择题
蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）
A.行星架转速
B.加热温度
C.熔源时间
D.tooling值 -
单项选择题
P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）
A.SiH4、O2
B.SiH4、NH3
C.SiH4、N2O
D.SiH4、N2 -
单项选择题
溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）
A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1%
