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判断题
氧化物有两个生长阶段来描述,分别是线性阶段和抛物线阶段。
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判断题
虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词,但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结,取而代之的是离子注入。
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栅氧一般通过热生长获得。
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硅上的自然氧化层并不是一种必需的氧化材料,在随后的工艺中要清洗去除。
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