欢迎来到财会考试题库网 财会考试题库官网
logo
全部科目 > 大学试题 > 理学 > 材料科学 > 材料概论

单项选择题

目前生长半导体单晶最常见的方法是()

    A.直拉法
    B.CVD法
    C.布里兹曼法
    D.液相外延法

点击查看答案

相关考题

  • 单项选择题
    以下熔体生长法生长晶体描述正确的是​()

    A.材料必须在熔化过程中成分不变
    B.材料在是温和熔点之间能够发生相变
    C.二氧化硅可以用于熔体生长法
    D.材料在熔化前能够分解

  • 单项选择题
    以下对于晶体生长的方法描述错误的是‎()

    A.金刚石一般采取固相生长法
    B.Si晶体一般采用溶液生长法
    C.GaN可以采取气相生长法
    D.任何两相之间都有亚稳区存在,当热力学条件处于亚稳相区才有新相的产生

  • 单项选择题
    以下对于非均匀形核的描述错误的是‍()

    A.一般所有的杂质都可以充当形核的基底
    B.降低湿润角,一般需要选择与晶核相同晶体结构,相近的点阵常数作为异质形核点
    C.当同质外延或直接从单质熔液生长单晶时,润湿角为零
    D.杂质表面的形状对于表面形核有影响,凹面促进形核

微信小程序免费搜题
微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题