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单项选择题
离子注入机机架外壳和高压放电棒接地电阻小于（）。
A.1Ω
B.5Ω
C.10Ω -
判断题
Metal slab中的金属Ti是为了形成金属硅化物降低接触电阻。 -
判断题
扩散的低压工艺有多晶、氮化硅和TEOS。
