欢迎来到财会考试题库网 财会考试题库官网
logo
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

问答题

简答题

什么是正光刻胶,负光刻胶?

    【参考答案】

    正光刻胶:胶的曝光区在显影中除去,当前常用正胶为DQN,组成为光敏剂重氮醌(DQ),碱溶性的酚醛树脂(N),和溶剂二甲苯......

    (↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)

    点击查看答案
    微信小程序免费搜题
    微信扫一扫,加关注免费搜题

    微信扫一扫,加关注免费搜题