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掺杂后,退火的目的是()。
A.实现电激活
B.修复损伤
C.提高掺杂均匀性
D.加大损伤 -
多项选择题
常压的硅外延方法有()。
A.四氯化硅氢还原法
B.三氯氢硅氢还原法
C.二氯氢硅烷法
D.硅烷热分解法 -
单项选择题
刻蚀工艺可以和以下哪个工艺结合来实现图形的转移?()
A.氧化
B.离子注入
C.光刻
D.抛光
