问答题
根据下图给出的一氧化工艺的菜单实例,试说明: (1)该工艺采用的氧化方法 (2)每一步骤的具体作用(或状态) (3)氮气在整个工艺流程中的作用 (4)工艺过程中加入HCl的主要作用
(1)干氧掺氯氧化;栅氧(2)作用:见表中注释(3)第0~3步:去除杂质气体,同时起保压作用......
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问答题 氧化系统的基本组成结构及每一部分的主要作用。
问答题 什么是氧化层固定电荷?其产生的主要原因是什么?它对半导体器件的电学特性有何影响?工艺中可以用什么办法来解决?
问答题 列出Si—SiO2界面处的四种电荷,说明钠离子是属于哪一类电荷,以及这一类电荷会导致芯片出现什么问题,工艺中如何解决这一问题?