判断题
通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
正确
单项选择题 光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
单项选择题 在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()
判断题 提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。