问答题
简述溅射的优缺点。
优点：①台阶覆盖能力好；②能沉积金属合金；③能进行原位溅射刻蚀。 缺点：溅射速率低，金属膜含氩。
问答题 简述蒸发的优缺点。
问答题 简述沉积多晶硅采用什么CVD工具？掺杂的Poly－Si的主要用途。写出掺杂的Poly－Si做栅电极的6个原因。
问答题 简述在APCVD SiO2时掺杂PH3，形成磷硅玻璃（PSG）的优缺点。
