填空题
溅射镀膜方法有（）、（）、（）、（）等。
直流溅射；射频溅射；偏压溅射；磁控溅射（反应溅射、离子束溅射）
填空题 离子对物体表面轰击时可能发生的物理过程有（）、（）、（）、（）。
填空题 自持放电的形式有（）、（）、（）、（）。
填空题 真空蒸发设备由三大部分组成，分别是（）、（）、（）及（）系统。
