判断题
通过引入耗尽近似,耗尽层内部的电荷密度完全正比于净杂质浓度。
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判断题 通常的内建电势小于禁带宽度对应的电压值。
判断题 冶金结附近的空间电荷是由p型一侧电子和n型一侧空穴的积累引起的。
判断题 P沟道的短沟道MOSFET 更容易发生横向双极击穿。