问答题
掺杂的主要目的是什么？给出硅片制造中的三种主要掺杂应用。
掺杂被广泛应用于硅片制造的全过程，是改变材料性能，改变晶片电学性质、实现器件和电路纵向结构的重要手段。利用掺......
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问答题 根据下图给出的一氧化工艺的菜单实例，试说明： （1）该工艺采用的氧化方法 （2）每一步骤的具体作用（或状态） （3）氮气在整个工艺流程中的作用 （4）工艺过程中加入HCl的主要作用
问答题 氧化系统的基本组成结构及每一部分的主要作用。
问答题 什么是氧化层固定电荷？其产生的主要原因是什么？它对半导体器件的电学特性有何影响？工艺中可以用什么办法来解决？
