填空题
硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤()、()和()。
预淀积;推进;激活
填空题 集成电路制造中掺杂类工艺有()和()两种。
填空题 扩散是物质的一个基本性质,描述了()的情况。其发生有两个必要条件()和()。
填空题 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种,分别是()扩散和()扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分,即(),才有助于形成半导体硅。