判断题
连续固溶体可以是替位式固溶体,也可以是间隙式固溶体。
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填空题 设计与生产一种最简单的硅双极型PN结隔离结构的集成电路,需要()、()、()、()、()、()等六次光刻。
填空题 常规集成电路平面制造工艺主要由()、()、()、()、()等工艺手段组成。
填空题 湿法腐蚀的特点是()、()、()、()。