填空题
湿法腐蚀的特点是（）、（）、（）、（）。
选择比高；工艺简单；各向同性；线条宽度难以控制
填空题 湿法腐蚀Si所用溶液有（）、（）等，腐蚀SiO2常用的腐蚀剂是（），腐蚀Si3N4常用的腐蚀剂是（）。
填空题 控制湿法腐蚀的主要参数有（）、（）、（）、（）等。
填空题 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。
