判断题 超高真空之气流型态爲分子流。

判断题 素材进入真空系统以前必须充分干燥，不得含有水气，但溶剂则无妨碍。

判断题 磁控靶産生不均匀刻蚀的现象是由于磁场造成粒子的特殊轨迹所致。