判断题
使用化学腐蚀法检查针孔时,硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目()
正确
判断题 薄膜制备的方式中,CVD不消耗衬底材料。
判断题 溅射常用的等离子体是用氩气离化的。
判断题 溅射相对蒸镀具有不少优势,但某些特殊材质薄膜的制备上电子束蒸镀更有优势。