问答题 试说明热氧化法的两种基本方法及每种方法的生长机理（或过程），并比较两种方法的主要异同点。

问答题 什么是氧化硅中网络形成者和网络改变者？并举二例说明它们对氧化层结构和性质的影响。

问答题 指出硅工艺中厚度最小的和最大的氧化层的主要应用，并说明它们的作用是否相同，以及为什么。