填空题
缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（）、（）、高密度等离子体化学气相淀积和（）。
等离子体增强化学气相淀积；低压化学气相淀积；常压化学气相淀积
填空题 淀积膜的过程有三个不同的阶段。第一步是（），第二步是（），第三步是（）。
填空题 目前常用的CVD系统有（）、（）和（）。
填空题 立式炉的工艺腔或炉管是对硅片加热的场所，它由垂直的（）、（）和（）组成。
