填空题
淀积膜的过程有三个不同的阶段。第一步是(),第二步是(),第三步是()。
晶核形成;聚焦成束;汇聚成膜
填空题 目前常用的CVD系统有()、()和()。
填空题 立式炉的工艺腔或炉管是对硅片加热的场所,它由垂直的()、()和()组成。
填空题 硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常平整,使得产生的氧化物主要为层状结构,所以又称为()。