填空题
硅片上的氧化物主要通过（）和（）的方法产生，由于硅片表面非常平整，使得产生的氧化物主要为层状结构，所以又称为（）。
热生长；淀积；薄膜
填空题 列出热氧化物在硅片制造的4种用途（）、（）、场氧化层和（）。
填空题 选择性氧化常见的有（）和（），其英语缩略语分别为LOCOS和（）。
填空题 用于热工艺的立式炉的主要控制系统分为五部分（）、（）、气体分配系统、尾气系统和（）。
