填空题
用于热工艺的立式炉的主要控制系统分为五部分（）、（）、气体分配系统、尾气系统和（）。
工艺腔；硅片传输系统；温控系统
填空题 根据氧化剂的不同，热氧化可分为（）、（）和（）。
填空题 热氧化工艺的基本设备有三种（）、（）和（）。
填空题 制备半导体级硅的过程：1、（）；2、（）；3、（）。
