多项选择题
CVD技术可以制备的薄膜有()。
A.SiO2B.单晶硅C.BSGD.Si3N4
多项选择题 溅射方法从本质上可分为()。
多项选择题 集成电路制造技术中,薄膜制备技术主要包括两大类()。
单项选择题 与真空蒸发相比,溅射薄膜的台阶覆盖性好,关键在于()。