判断题
PN结隔离所依据的基本原理是利用PN结正向偏置时的高阻性。
错误(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
判断题 集成电路制造工艺中隔离扩散的深度可以不超过外延层的厚度。
判断题 满足双极晶体管的正常工作,需要晶体管的基区非常薄,小于少子的扩散长度才可,这样使扩散远远大于复合。
判断题 制备光刻掩膜版,希望黑白区域间的过渡区越大越好。