单项选择题 以下集成电路版图（Layout）设计技术及方法，不正确的是（）。

单项选择题 集成电路设计及制造中，版图（Layout）与掩膜（Mask）的关系是（）。‍

单项选择题 集成电路制造工艺中，以下对氧化速率没有影响的因素是（）。‌