单项选择题
集成电路设计及制造中，版图（Layout）与掩膜（Mask）的关系是（）。
A.根据版图提供的信息来制造掩膜B.根据掩膜提供的信息来设计版图C.版图（Layout）与掩膜（Mask）的毫无关系D.不确定
单项选择题 集成电路制造工艺中，以下对氧化速率没有影响的因素是（）。
单项选择题 集成电路制造工艺中，以下不是热氧化方法的是（）。
单项选择题 集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于（）。
