多项选择题
先进的光刻技术有（）
A.EUV曝光B.电子束光刻C.X射线光刻D.纳米压印技术
多项选择题 光刻胶的主要性能指标有（）
多项选择题 光刻胶的主要成分有（）
多项选择题 光刻工艺三要素为（）
