填空题
CVD过程中化学反应所需的激活能来源有（）、（）、（）等。
热能；等离子体；光能
填空题 常用的溅射镀膜气体是（），射频溅射镀膜的射频频率是（）。
填空题 溅射镀膜方法有（）、（）、（）、（）等。
填空题 离子对物体表面轰击时可能发生的物理过程有（）、（）、（）、（）。
