多项选择题
对非光学曝光表述正确的是（）。
A.X-射线是非光学曝光B.电子束是非光学曝光C.非光学曝光都不需要光刻版D.EUV是非光学曝光
多项选择题 对移相掩膜（PSM）表述正确的是（）。
多项选择题 对正性光刻胶特性表述正确的是（）。
多项选择题 提高光刻分辨率的途径有（）。
