多项选择题 ‏光刻工艺流程中后烘的作用是（）。

多项选择题 光刻是集成电路制造最重要的工艺，是因为（）。

单项选择题 现代光刻工艺有10个步骤，其中4个是热处理步骤，下列哪个热处理顺序是正确的？（）